<strike id="6ul5z"><em id="6ul5z"></em></strike>
<strike id="6ul5z"><menu id="6ul5z"></menu></strike>

    <nav id="6ul5z"></nav>
    <tr id="6ul5z"><sup id="6ul5z"></sup></tr><code id="6ul5z"><small id="6ul5z"></small></code>

    <big id="6ul5z"></big>

    天科创达
    产品中心
    OUR PRODUCTS
    浏览量:
    926

    微波去胶机

    去胶工艺是微加工实验中一个非常重要的过程。在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺之后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶去除的是否干净彻底、对样片是否有损伤等问题将直接影响到后续工艺的顺利完成。德国ALPHA PLAMSA拥有多年的去胶经验,致力于给您提供专业的微波等离子体去胶机系统,并提供专业的技术支持服务。产品优势:? 去胶快速彻底? 对样片无损伤? 操作简单安全? 设计紧凑美观? 产品性价比高
    零售价
    0.0
    市场价
    0.0
    浏览量:
    917
    产品编号
    数量
    -
    +
    库存:
    0
    产品详情
    参数

    去胶工艺是微加工实验中一个非常重要的过程。在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺之后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶去除的是否干净彻底、对样片是否有损伤等问题将直接影响到后续工艺的顺利完成。德国ALPHA PLAMSA拥有多年的去胶经验,致力于给您提供专业的微波等离子体去胶机系统,并提供专业的技术支持服务。

    产品优势:

    ? 去胶快速彻底
    ? 对样片无损伤
    ? 操作简单安全
    ? 设计紧凑美观
    ? 产品性价比高

    产品用途:

    ? 高剂量离子注入光刻胶的去除
    ? 湿法或干法刻蚀前后的去残胶
    ? MEMS中牺牲层的去除
    ? 去除化学残余物
    ? 清除浮渣工艺

    型号参考(详细说明请联系我们)

    SU-8胶的去除:

      MEMS工艺中经常用到SU8光刻胶,然而SU8非常稳定,其***致命的缺点就是去胶困难。为了解决SU-8光刻胶的去胶问题,我们向您推荐德国Alpha Plasma专业的SU-8微波等离子体去胶机,该设备采用氟基气体的去胶工艺,利用氟基气体与SU-8胶的化学反应,实现快速去除SU-8功能。同时设备中还集成了温控系统,去胶过程中对衬底温度的控制保证了高深宽比金属结构的完整性,***终实现高质量MEMS器件的制备。SU-8去胶速率验收指标为1μm/min,实验中可达到几个微米。因此这款专业的SU8去胶机是MEMS去胶工艺的理想选择。


    扫二维码用手机看
    未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
    上一个

    联系方式

    电话:4006-888-927

    手机:15011229190  18500694965

    传真:010-89717262

    邮箱:sales@www.daduye.com

    地址:北京市昌平区科技园区创新路11号创业大厦610

    扫一扫,关注天科创达

    二维码
    色综合久久中文字幕综合网